Puhutud kile ekstrusiooniprotsessis on mõned loomupärased puudused
Halb kile paksus ühtlus:
Filmi puhumisprotsessi ajal võivad sula vooluomadused ekstrusiooni ja puhumise ajal põhjustada kile paksuse ebaühtlast jaotust.
Ebaõige suremise tühimiku reguleerimine, ebaühtlane jahutusõhu maht ja ebaühtlane küttetemperatuur sureb pea pea ümber kile paksuse ühtlust.
Madal jahutuskiirus:
Film tuleb pärast väljapressimist jahutada ja tahkuda, kuid jahutuskiirust piiravad paljud tegurid, näiteks jahutusõhu maht ja jahutusõhurõnga kujundus.
Halb jahutamise efekt võib põhjustada selliseid probleeme nagu kile läbipaistvus ja kleepuvus ning mõjutada isegi normaalset tootmist.
Madal kile läbipaistvus:
Puhutud kileprotsessi toodetud kile läbipaistvust võivad mõjutada paljud tegurid, näiteks toorained, väljapressimistemperatuur ja jahutusmõju.
Vaigu tooraine kristallilisus, kehv sula plastistamine ja kehv jahutamise efekt võib põhjustada kile läbipaistvust.
Madal väljund:
Jahutustingimuste piirangute tõttu ei ületa mähise kiirus üldiselt teatud vahemikku (näiteks 10m/min), mis piirab kile väljundit.
Lisaks võib ohverdada filmi kvaliteedi parandamiseks, näiteks paksuse ühtluse ja läbipaistvuse tagamiseks.
Muud protsessiraskused:
Teatavate konkreetsete materjalide (näiteks PLA) puhul seisab puhutud kilede väljapressimine silmitsi ka selliste väljakutsetega nagu väike sulatugevus, halb sitkus ja madal kristallilisus.
Need omadused võivad põhjustada selliseid probleeme nagu kile moodustumise raskused, kile kerge purunemine või halb soojustakistus.
